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還不知道如何操作超低溫試驗箱？進來看
202512-23

超低溫試驗箱作為模擬低溫環境的核心設備，廣泛應用于材料老化、藥品穩定性、電子元器件耐寒性等關鍵測試領域。其性能發揮不僅依賴硬件品質，更與操作規范密切相關。錯誤使用不僅影響測試數據準確性，還可能縮短設備壽命，甚至引發安全隱患。掌握超低溫試驗箱的規范操作流程，是確保試驗高效、安全、可靠的前提。一、使用前準備先確保設備放置在通風良好、干燥無塵、遠離熱源和易燃物的環境中，周圍預留至少30cm散熱空間。檢查...

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  • 高溫無氧烘箱在半導體行業中的用途高溫無氧烘箱應用于MEMS智能傳感器芯片生產、LCD前工段生產、玻璃基板等工藝中的PI（聚酰亞胺）固化，BCB聚合物、PBO高溫固化，銀膠固化，光刻膠固化，鍍金方案中感濕膜烘烤工藝，車載玻璃鍍膜后退火，硅片（...

    2022-04-26

  • HMDS烘箱在Micro-LED芯片的應用Micro-LED具有*的性能，應用于微型顯示器、可見光通信、光學生物芯片、可穿戴設備和生物傳感器等領域。目前，Micro-LED顯示的技術挑戰是如何獲得高分辨率和高像素密度。像素尺寸縮小、芯片的周...

    2022-04-24

  • -150超低溫試驗箱只用機械制冷，無需使用液氮的方法高低溫試驗箱常規的溫度為-80~150度，然而低于-100度就需要液氮輔助才可以實現；現在無需液氮輔助，只需要機械制冷的方式就可以實現。超低溫試驗箱主要應用于能源（超導輸電、超導儲能、超導...

    2022-04-21

  • 高精度烤膠機的基本功能加熱面積尺寸：160mm*160mm、220mm*220mm，多尺寸定制控溫范圍：室溫--200/300/400/500/600℃溫度分辨率：0.1℃溫度波動度：≤±0.5℃溫度均勻性：≤±...

    2022-04-20

  • 高溫真空無氧烤箱有哪些優點外型尺寸相對較小，節約空間氮氣使用量減小，能耗低真空固化效果更佳高溫真空無氧烤箱用于鍵合前鍵合材料的真空固化、ITO膜退火，BCB/PI膠固化等工藝。廣泛應用于半導體、電子產品、醫療衛生等行業，適用于工廠、高等院校...

    2022-04-15

  • 潔凈烘箱選型的方法和注意事項潔凈烘箱選型的方法工作室尺寸的選擇：根據最大產品外形尺寸+最大產量+余量5%選擇合適的內部尺寸規格450×450×450mm500×500×500mm500×600×700mm700×800×900mm800×1...

    2022-04-14

  • 選擇HMDS烘箱的容積內腔尺寸：450*450*450mm，1-8寸片均適用，4寸晶圓可處理200P/次；HMDS烘箱真空泵的選擇根據腔體容積，選配合適型號的真空泵。常用渦旋式真空泵又分為油泵和干泵。◆全無油泵，不會污染真空系統◆采用獨立馬...

    2022-04-13

  • 無氧烤箱中檢測氧濃度的方法在以Y2O3穩定的ZrO2陶瓷(YSZ)中，當兩側附著多孔Pt電極的YSZ固體電介質的兩側存在氧濃度差時，氧離子就從氧濃度大的一側(P"O2)向濃度小的一側(P'O2)遷移，其步驟是：在高氧濃側，一個氧原子得到兩個...

    2022-04-12

  • 半導體專用厭氧烤箱安保功能：短路保護、漏電保護、超溫保護、電機過電流保護、電磁門禁保護。半導體專用厭氧烤箱用途：精密無氧烘箱應用于精密電子元件、PI、BCB、LCP固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環境，特...

    2022-04-12

  • HMDS六甲基二硅胺烷成底膜的重要性半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠...

    2022-04-09

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