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  • 六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備 工業烘箱
    六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中,通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會導致后續的光刻顯影環節出現“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。
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    2025-09-17
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  • HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )-真空烘箱
    HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在箱內先經過100℃-200℃的去水烘烤,再進行HMDS處理,不需要從箱內傳出,而接觸到空氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有更好的處理效果。
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  • 智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)
    智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
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  • 智能型HMDS系統真空泵,HMDS涂膠機干泵
    智能型HMDS系統真空泵,HMDS涂膠機干泵密封設計(電機和所有軸承與真空環路*隔開)延長了軸承的使用壽命, 還可提供潔凈、無油的真空條件。可選的集成入口保護閥內置于泵模塊中, 可根據需要使用,不會額外增加泵的高度。
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  • HMDS增粘裝置,涂敷HMDS增粘劑的裝置
    HMDS增粘裝置,涂敷HMDS增粘劑的裝置通過對箱體內預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,增加了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
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