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簡述無塵無氧化烤箱的規范使用方法
更新時間:2025-10-24 點擊次數:69次
無塵無氧化烤箱是半導體、光電子、新能源與精密制造領域的核心熱處理設備,其以超凈環境、無氧氛圍與精準溫控,為晶圓烘烤、薄膜退火、光刻膠固化等關鍵工藝保駕護航。任何操作不當都可能導致產品污染、氧化或性能失效,掌握
無塵無氧化烤箱
科學、規范的使用方法,是確保工藝穩定與設備壽命的關鍵。
第一步:使用前環境與設備檢查
確認烤箱放置在潔凈室(如ISO Class 5級或更高)內,周圍無振動、無強電磁干擾。檢查電源電壓、氣源(氮氣/氬氣)壓力是否符合要求。確認氣體管路連接牢固,無泄漏。檢查HEPA/ULPA過濾器狀態,若壓差報警或使用超期,需更換。
第二步:腔體清潔與去污
操作人員穿戴潔凈服、手套與口罩。使用無塵布蘸取高純異丙醇或去離子水,擦拭不銹鋼內膽、擱板與門封。避免使用普通抹布或含硅清潔劑,防止二次污染。清潔后關閉箱門,啟動空載循環凈化程序,確保腔內潔凈度達標。
第三步:樣品裝載與擱板設置
將待處理樣品置于專用潔凈舟或晶圓盒中,嚴禁裸手接觸。輕柔放入烤箱,避免劇烈震動產生微粒。合理分布樣品,確保氣流暢通,不遮擋加熱區與傳感器。記錄樣品信息與工藝編號。
第四步:氣氛置換與真空操作(如適用)
開啟惰性氣體閥門,設定流量(如5-10L/min),進行多次充放氣循環(Purge Cycle),將腔內氧氣含量降至工藝要求(通常<1ppm)。若需真空工藝,啟動真空泵,抽至設定真空度后關閉閥門,維持負壓。
第五步:程序設定與啟動
通過觸摸屏或控制面板設定工藝曲線:包括升溫速率、目標溫度、恒溫時間、降溫模式等。選擇“氮氣保護”或“真空”模式。確認無誤后啟動運行。系統將自動執行升溫、恒溫、冷卻全過程。
第六步:運行中監控
觀察溫度曲線、氣體流量與腔體壓力是否穩定。通過觀察窗監視樣品狀態,禁止頻繁開門。若出現超溫、氣體壓力異常或系統報警,立即暫停程序,排查原因。
第七步:冷卻與取料
程序結束后,設備自動降溫。嚴禁在高溫下開門,防止空氣涌入導致氧化或熱沖擊。待溫度降至安全值(通常<60℃)且氣氛穩定后,緩慢開啟箱門,取出樣品。取料動作輕柔,避免擾動殘留微粒。
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